Ge-Sb-Te系による新規組成の薄膜作製および評価
スポンサーリンク
概要
著者
-
不破 章雄
早稲田大学 大学院 理工学研究科
-
森 暁
三菱マテリアル
-
石崎 貴裕
早稲田大学大学院理工学研究科
-
森 暁
三菱マテリアル株式会社三田工場
-
鈴木 友宏
早稲田大学大学院理工学研究科
-
不破 章雄
早稲田大学大学院理工学研究科
-
不破 章雄
早稲田大学理工学部物質開発工学科
-
不破 章雄
早稲田大学理工学部材料工学科
-
不破 章雄
早稲田大学 創造理工学研究科
関連論文
- タンパク質吸着量抑制のためのプラズマグラフト重合によるポリスルホン精密濾過膜の親水化処理
- 非経験的分子軌道法を用いた六塩化ベンゼンの銅クラスターへの吸着構造における理論的解明
- 分子軌道法計算によるダイオキシン前駆物質塩化ベンゼンに対する銅触媒効果の解析
- 非経験的分子軌道法計算によるダイオキシン前駆体物質のベンゼン環開裂反応機構の解明
- 高周波マグネトロンスパッタリング法によるGe-Sb-Te薄膜の作製及び評価
- 非経験的分子軌道法によるフェノールの塩化反応に対する銅の触媒効果解析
- 非経験的分子軌道法計算による炭化水素を用いたNO_x選択還元における白金触媒の効果解析
- 炭化水素を用いたNO_x選択還元におけるPt/Al_2O_3触媒反応優先面の考察
- 量子化学計算によるPCDDsの生成機構の提案及び重金属触媒効果の解析
- 量子化学計算によるMOCVD-ZnTe薄膜形成過程に関する理論的研究