パルスレーザーアベレーションによって作製したTi_<62.5>Si_<37.5>膜の準安定相
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概要
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- 2002-11-27
著者
-
古屋 一夫
物材機構
-
宋 明暉
NIMS
-
古屋 一夫
物質・材料研究機構
-
三石 和貴
物質・材料研究機構
-
三石 和貴
物質材料研究機構
-
三石 和貴
(独)物質・材料研究機構
-
バイサカ S.
物質材料研究機構・ナノマテリアル研究所
-
ダス P.K.
インド科学研究所・無機化学科
-
チャトパディファイ K.
インド科学研究所・金属学科
-
宋 明暉
物質材料研究機構・ナノマテリアル研究所
-
古屋 一夫
物質材料研究機構・ナノマテリアル研究所
-
古屋 一夫
物質材料研究機構
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