リモージュセラミック工科大学(ENSCI)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 1992-01-01

著者

• 菱田 俊一

  物質・材料研究機構

• 菱田 俊一

  物材機構物質研

• 菱田 俊一

  物材機構

• 菱田 俊一

  無機材質研究所

• 菱田 俊一

  科学技術庁無機材質研究所

関連論文

• 23aPS-41 カーボン系材料におけるコヒーレントフォノンのプラズモン増強(23aPS 領域5ポスターセッション(光電子分光・光誘起相転移等),領域5(光物性))
• 二次イオン質量分析を用いた酸化亜鉛薄膜のキャラクタリゼーション
• 2J16 酸化亜鉛中の点欠陥構造に対するイオン注入の効果
• 24aT-2 Ag_2S/SrTiO_3(001)のヘテロエピタキシー
• コンビナトリアルイオン注入法を用いた化学センサ修飾
• グラッシーカーボン粉末の熱プラズマ処理による表面修飾およびその電気化学特性
• 2J13 酸化亜鉛薄膜成長に関する金の効果
• 19pPSB-26 Te/Ni(111)表面の√構造
• SrTiO_3-Bi_2O_3系コンデンサの粒界の伝導特性
• 減圧下での加熱処理によるPTCチタン酸バリウムセラミックスの劣化機構 : 物性・応用
• SrTiO_3セラミックスの粒界の組成分布 : 組成・構造
• 27pPSA-13 NbB_2(0001)とZrB_2(0001)のXPS(領域9ポスターセッション)(領域9)
• リモージュセラミック工科大学(ENSCI)
• HIPにおける実効の酸素分圧
• 機能性セラミックスの粒界とミクロ機能
• 26aRA-2 グラファイト表面におけるDモード・コヒーレントフォノンの振幅増強(26aRA 炭素系物質,領域7(分子性固体・有機導体))
• イオン照射高分子の損傷分布
• 26pYB-1 イオン照射Biにおけるコヒーレントフォノンの照射量依存性
• 25a-YN-11 イオン照射ビスマスのフォノンダイナミクス
• 3L04 ビスマス系ペロブスカイト酸化物薄膜の作製と評価
• シリコンのプラズマ酸化における酸素イオンの効果
• アナターゼの電気伝導度
• 五酸化ニオブの添加による、アナターゼ-ルチル相転移の抑制 : 固溶体の生成と相転移の抑制の関係
• Nb_2O_5の添加によるアナターゼル-ルチル転移の抑制
• セラミックスの電磁気的・光学的性質 : VIII. プロセス薄膜プロセス(1)物理的手法
• セラミックスにおける微量分析 (超微量物質の検出と同定)
• 酸化亜鉛超薄膜の合成 (特集 ウルツァイト化合物の合成と物性)
• IMA(SIMS) (機器分析はここまでできる--マグカ-ボンれんがとファインセラミックスに役立つ分析機器) -- (表面分析)
• 22aTE-8 グラファイトにおけるコヒーレントDモードフォノンの検出波長依存性(22aTE 領域7,領域9合同 グラフェン(分光),領域7(分子性固体・有機導体))
• 21pEB-2 非磁性表面でのスピン偏極イオン散乱分光(21pEB 放射線物理(表面・バルク),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
• イオンビームによる無機材料の結晶成長
• 24pPSA-36 半金属Bi超薄膜における表面金属状態の時間領域THz分光(24pPSA 領域5 ポスターセッション,領域5(光物性))
• 26pPSB-56 Si/Fe(100)最表面の磁気構造(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27pPSA-28 液体ヘリウムフリー超高真空冷却試料マニピュレータの試作(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク