パタン側壁成膜により形成したナノ構造Co細線の磁化過程
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1999-10-01
著者
関連論文
- マイクロコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト記録実験(固体メモリおよび一般)
- マイクロコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト記録実験(固体メモリ及び一般)
- ベクトルネットワークアナライザFMR分光法によるNiFe薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転検出
- TbFe/CoFe二層膜パタンの熱アシスト磁化反転特性
- 交換結合ナノピラーにおけるマイクロ波アシスト磁化反転挙動の軟磁性層厚依存性(固体メモリおよび一般)
- マイクロ波アシスト垂直磁気記録における記録トラック幅のオシレーション周波数依存性(固体メモリおよび一般)
- 交換結合ナノピラーにおけるマイクロ波アシスト磁化反転挙動の軟磁性層厚依存性(固体メモリ及び一般)
- マイクロ波アシスト垂直磁気記録における記録トラック幅のオシレーション周波数依存性(固体メモリ及び一般)
- サブミクロン幅NiFe薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転
- CS-8-5 コプレーナ線路上に作製した強磁性薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転(CS-8.次世代情報ストレージ技術の動向,シンポジウムセッション)
- 強磁性薄膜パターンのマイクロ波アシスト磁化反転実験
- 垂直磁化ナノドットの熱アシスト磁化反転シミュレーション
- 微細加工領域での磁性物理
- 遷移金属酸化物を用いたトンネル磁気抵抗素子の作製と特性評価
- Co_Fe_スパッタ薄膜における Oblique-Incidence 効果
- クロスコンタクト構造NiFe/Cu多層膜のCPP-GMR特性
- セル間の静磁気的相互作用を考慮したMRAM電流一致選択動作の計算機シミュレーション
- スパッタ Fe_3O_4薄膜における電圧誘起スイッチング
- サブミクロンスケールNiFe/Cu多層膜パターンにおけるフリンジ磁界結合の膜厚依存性
- マイクロ波アシスト磁気記録における記録ビットパターンの媒体飽和磁化依存性
- グラニュラー媒体への狭トラックマイクロ波アシスト磁気記録シミュレーション(ハードディスクドライブ+一般)
- スパッタFe_3O_4薄膜の磁気および電気伝導特性
- GMR効果を用いた微小磁性体の磁化反転過程の測定
- サブミクロンレリーフ構造化したGMR膜の磁気抵抗測定
- マイクロ波アシスト磁気記録における記録ビットパターンの媒体飽和磁化依存性
- パタン側壁成膜により形成したナノ構造Co細線の磁化過程
- 極微磁性細線のメゾスコピック磁化反転過程
- ハード磁性層を縦バイアスに用いた高温動作GMRセンサ
- サブμm幅磁性多層膜細線の微小磁界変化に対する磁気抵抗特性
- サブμm幅磁性多層膜細線の磁気抵抗特性
- サブμm幅磁性多層膜細線の磁気抵抗特性
- パルス導体電流による擬スピンバルブMRAMセルのスピン方位制御
- レリーフ構造化したサブミクロンスケールGMR膜パタンの磁化反転特性
- 微細加工したコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト磁化反転実験(光記録,一般)
- Gbit級MRAM機能動作の計算機シミュレーション(特別ワークショップ : スピンエレクトロニクスとその応用)
- 磁性薄膜細線における磁化反転過程の解析
- 微細加工したコプレーナ線路を用いたマイクロ波アシスト磁化反転実験(光記録,一般)
- 微細磁気構造の制御とデバイス応用
- サブミクロンCo_Pt_矩形微粒子の熱擾乱に対する磁化安定性
- クロスコンタクト構造CPP-GMR素子の磁気抵抗特性
- サブミクロンCPP-GMR素子における層間静磁気相互作用
- 矩形MRAM記憶セルの動作スケーリング
- TiO_X/(Co,CoPt)多層膜におけるスピン依存型CPP伝導特性
- パルス電流磁界による磁性多層膜細線のサブμm^^2磁区制御
- 補助電流磁界を用いたMRAMの選択書き込み動作実験
- GMR,TMRの磁性ランダムアクセスメモリへの応用
- MRAM選択書き込み基本動作実験
- サブミクロンサイズ強磁性細線における180°対向磁壁の磁気構造