planar Hall効果を利用した高感度磁界検出に関する検討

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 1998-09-01

著者

• 澤邊 厚仁

  青学大理工

• 鈴木 一博

  (株)トウ・プラス

• 鈴木 一博

  (株)トウプラス

• 関根 昌章

  青学大

• 澤邊 厚仁

  青学大・理工

関連論文

• 24aZH-13 CVDダイヤモンドを用いた放射線検出器の開発II(24aZH 宇宙物理,宇宙線・宇宙物理領域)
• 27aSF-6 CVDダイヤモンド結晶を用いた検出器の開発(27aSF X線・γ線,宇宙線・宇宙物理領域)
• ヘテロエピダイヤモンドのナノ構造制御と電子放出特性の評価(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
• ヘテロエピダイヤモンドのナノ構造制御と電子放出特性の評価
• 19aWF-1 Bドープダイヤモンドの合成と評価(19aWF ドープダイヤモンド,領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
• 青山学院大学理工学部 澤邊研究室
• ダイヤモンド薄膜の新しい機能とその可能性 -冷陰極を中心に-
• 電子線及び直流プラズマCVDによるダイヤモンド膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
• 21aPS-126 Bドープダイヤモンド・炭化珪素薄膜の合成・評価(領域8ポスターセッション(低温),領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)
• 17pA04 ダイヤモンドのヘテロエピタキシャル成長技術(機能性材料ダイヤモンド,バルク成長シンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
• ダイヤモンドのヘテロエピタキシャル成長 (ワイドギャップ半導体とそのデバイス応用論文小特集)
• planar Hall効果を利用した高感度磁界検出に関する検討
• プラズマを用いた金属薄膜作製における初期成長過程の観察
• ヘテロエピタキシャルダイヤモンド基板の開発とそのデバイス応用
• 電子線を用いたCVDによって作製したダイヤモンド薄膜の電気的・物理的諸特性
• ダイヤモンドの低圧合成と電気材料への応用
• 気相からのダイヤモンド薄膜の作製とその評価
• プラズマ中蒸着によるLiNbO3薄膜の作製と構造
• 記念式典・講演会
• 薄膜・表面
• 薄膜・表面
• 高分子薄膜および高分子への蒸着における付着力, 密着性

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク