プラズマ中蒸着によるLiNbO<SUB>3</SUB>薄膜の作製と構造
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概要
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The structure of LiNbO<SUB>3</SUB> films formed by plasma-assisted deposition (PAD) is described in relation to the surface roughness and epitaxy of the films.<BR>At the substrate temperature of about 20 °C, the films grow with poly-crystalline on MgO and CaF<SUB>2</SUB> cleaved surfaces. The surface roughness is within 200Å, which is nearly equal to the particle size of the films.<BR>By raising the substrate temperature, it is observed that the columnar particles begin to grow epitaxially on the surface of the film.<BR>These particles, however, disappear almost completely if the bias voltage of-600 V is applied to the substrate holder. The surface roughness of the film is estimated to be about 300 Å from SEM photographs. The bias voltage gives no drastic change in epitaxy.
- 日本真空協会の論文
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