V添加Fe-Co-Ni合金膜の軟磁気特性

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 1997-10-01

著者

• 宮崎 照宣

  東北大 原子分子材料科学高等研究機構

• 佐藤 文隆

  東北大・工

• 佐藤 文隆

  東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻

• 藤本 慎一

  東北大

関連論文

• Nd-Fe-B系焼結磁石における低温熱処理パターンと減磁曲線
• スピンポンピングによるスピン流の創出と物理現象
• 26aVD-7 垂直磁化Pt/Co/Pt三層膜における時間分解磁気光学効果(スピン流・スピンホール,領域3,磁性,磁気共鳴)
• Fe-Co-NiおよびCo基フルホイスラー合金薄膜における磁気緩和
• 27aTF-12 磁性金属薄膜のスピン緩和の光学的検出(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合のナノ秒領域におけるスピン注入磁化反転と実時間測定(スピンエレクトロニクス)
• スピントロニクスの形成と発展
• Co_2MnSiを用いた強磁性トンネル接合における極高スピン分極率の実現
• Co-Fe-B合金薄膜の磁気緩和定数測定(スピンエレクトロニクス)
• コプレーナ伝送路を有する微小強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• Co_2MnSi(110)エピタキシャル薄膜を用いた強磁性トンネル接合の作製(スピンエレクトロニクス)
• 強磁性共鳴を用いたMRAMフリー層材料の磁気緩和定数測定
• 24aXN-3 強磁性体二重トンネル接合を利用した超伝導体中へのスピン注入とその磁気抵抗効果(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aXN-1 Fe/MgO/Fe強磁性トンネル接合の非弾性電子トンネル分光(薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,トンネル分光,領域3(磁性,磁気共鳴))
• fcc-Co, Ni/Cu(001)超薄膜の伝導率スペクトルと電子構造
• 17pPSB-37 スパッタ法によるCa_La_xB_6薄膜の作製
• スパッタ法によるCa_La_xB_6薄膜の作製
• 強磁場プロセスによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
• 強磁場プロセシングによるNd-Fe-B焼結磁石の高保磁力化
• MnSbスパッタ薄膜の成長過程に及ぼす基板バイパス効果
• プレーナ配置式スパッタ法によるMnSbエピタキシャル薄膜の作製 (種々のSi基板上に作製したMnSb薄膜の配向制御)
• 金属キレート錯体Alq_3の磁性と伝導特性
• 有機無機層状ペロブスカイト錯体の磁性と光学特性
• 有機アミン-3d遷移金属錯体の磁性と光学特性
• Ni_Fe_Co/N(N=Ta, Al)/Al-oxide/Co接合における磁気抵抗効果
• Ni-Fe/Co/Al-O/Co接合におけるTMRのプラズマ酸化時間及びAl膜厚依存性
• 80NiFe/Al-oxide/Co接合における磁気抵抗効果のAl-oxide厚依存性
• 80NiFe/Al-oxide/Co接合におけるトンネル磁気抵抗比の80NiFe膜厚依存性
• 強磁性トンネル接合の微細加工
• 強磁性体/Al-oxide/Co接合のトンネル磁気抵抗効果の印加電圧及び温度依存性
• FIBによるサブミクロンMTJの作製プロセス
• 集束イオンビームを用いた微小強磁性トンネル接合の作製
• 異なる酸化条件により作製したTME素子のIETS
• スピンバルブ型トンネル接合のマグノン非弾性励起
• Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• スパッタリング法によるCo_2MnAlエピタキシャル薄膜の作製
• Nd-Fe-B/Fe系ナノコンポジット薄膜の磁気特性
• α-Fe/Nd-Fe-B交換結合多層膜の磁気特性
• 下部強磁性電極の結晶性と強磁性トンネル接合のバイアス電圧依存性
• 下部電極をエピタキシャル成長させた強磁性トンネル接合の局所伝導特性
• Nd-Dy-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
• Nd-Fe-B系焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力 (強磁場下の結晶成長及び強磁場の化学・生物学効果の研究)
• CO-NH_3ガスを用いた磁性薄膜のドライエッチング
• Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力
• スピントロニクスデバイスへ向けての最前線
• 27pPSA-7 磁性薄膜における強磁性共鳴の電気的検出および周波数依存性(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• ホイスラー系合金Co_2MnAlを用いた強磁性トンネル接合
• MTJに用いる Synthetic ferrimagnet フリー層の熱安定性
• Nd-Fe-B焼結磁石の強磁場中熱処理と保磁力II
• 20pWA-15 磁性イオンドープ CaB_6 系薄膜の構造と磁性
• 29aPS-65 Ca_La_xB_6 薄膜の構造と磁性 II
• Fe-Co-Ni三元合金薄膜の高周波透磁率
• Coナノ微粒子を含むトンネル接合の TMRとクーロンブロッケード
• 強磁性体二重トンネル接合による超伝導体へのスピン注入
• 強磁性体//超伝導体//強磁性体二重接合の磁気抵抗効果
• トンネルスピン分極率の強磁性層作製条件依存性
• Al/Al-oxide/ 強磁性体接合のトンネルコンダクタンス特性
• 強磁性共鳴によるナノコンポジット磁石の交換結合の評価
• 磁性ナノ粒子のカプセル化とその磁気特性
• 強磁場中熱処理によるNd-Fe-Co-B系急冷薄帯の作製
• 中間層を超伝導体とする二重トンネル接合の磁気抵抗効果
• (Er_Tb_χ)_2Fe_Bの逐次スピン再配列転移と格子変形
• プラズマ酸化法による低抵抗強磁性トンネル接合の作製
• (Nd_2Fe_B, SmFe_)-α-Fe系ナノコンポジット薄膜の配向と磁気特性
• ナノコンポジット磁石におけるハード相の配向と磁気特性
• Nb-Fe-B薄膜の微細化と磁気特性
• 基板加熱スパッタによるSmFe_系ハード磁性薄膜の作製
• TMR素子における絶縁層/強磁性層界面の評価と伝導特性
• 強磁性トンネル接合における絶縁層の酸化過程
• 強磁性トンネル接合の絶縁障壁とスピン依存伝導
• 強磁性トンネル接合のスピン依存局所伝導特性
• トンネル分光法を用いたスピン分極率測定
• 29aPS-65 Ca_La_xB_6 薄膜の構造と磁性 II
• Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu,Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長(薄膜)
• スピンダイナミクスとスピントロニクスデバイス
• TMR素子の高速磁化反転測定
• Cu/Ni_Fe_/N(N=Cu, Cu/Pt)薄膜におけるFMR線幅とスピン拡散長
• 金属ナノ細線をハードマスクに用いた強磁性単一電子素子の作製と特性評価
• Al_2O_3(0001)基板上のエピタキシャルトンネル接合のバイアス電圧依存性
• 多層膜中の強磁性薄膜における動的磁化過程
• 高速磁化反転測定のための埋め込みコプレナーガイドの作製
• サイドエッジ薄膜堆積法を用いた微小二重強磁性トンネル接合の作製
• スピンダイナミクスの電気的および光学的アプローチ
• TMR素子の動的磁化反転過程の測定
• 高耐熱・高耐電圧強磁性トンネル接合の作製
• 電子線リソグラフィを用いたナノメーターサイズTMR素子の作製
• TMR素子における極薄Alプラズマ酸化膜の特性
• 様々な酸化方法で作製した強磁性トンネル接合
• Ni_Fe_薄膜における磁気緩和
• 2p-R-10 非晶質(Fe,Co,Ni)-Bの液体状態の帯磁率II
• 31p GN-14 非晶質合金(Fe, Ni, Co)-Bの液体状態の帯磁率
• 強磁性トンネル接合用Al酸化膜の局所伝導
• 極薄Alプラズマ酸下膜を用いた強磁性トンネル接合の磁気抵抗効果
• (Er_Tb_x)_2Fe_Bの逐次スピン再配列転移と格子変形
• V添加Fe-Co-Ni合金膜の軟磁気特性
• Ar+N_2雰囲気中成膜Fe-Co-Ti合金膜の磁気特性
• Ni_Fe_薄膜における強磁性共鳴線幅の下地層依存性
• Co, 80NiFe薄膜における強磁性共鳴の膜厚依存性
• V添加によるFe-Co-Ni合金のfcc-bcc相境界の変化
• Fe-M-Ti(M=Co, Si)合金膜の磁気特性

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク