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Research Center For Nano-device And System Nagoya Institute Of Technology | 論文

• First-Principles Calculation of Bandgap Bowing Parameter for Wurtzite InAlGaN Quaternary Alloy using Large Supercell
• 4inch径Si基板上に作製した四元混晶InAlGaN/GaN HEMTエピ構造の特性評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• Si基板上AlGaN/GaN HEMTの高耐圧化(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• Si基板上GaN-HEMTによる5GHz50W出力電力特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• Structural Comparison between Ge and GaAs Films Grown by Molecular Beam Epitaxy on Si Substrate : Short Note
• C-10-12 AlGaN/GaNヘテロ構造に対する窒素プラズマ処理の効果(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• 低温成長GaNキャップ層を有するAlGaN/GaN HFET
• CS-9-4 リセスゲート構造を有するLT-GaN/AlGaN/GaN HFET(CS-9. ワイドギャップ半導体電子デバイスの現状と今後の展開,シンポジウムセッション)
• A comparative study on AlGaN/GaN based HEMT and MIS-HEMT with Al_2O_3 as gate dielectric(Session 6B : Wide Bandgap Materials and Devices, Power Devices)
• A comparative study on AlGaN/GaN based HEMT and MIS-HEMT with Al_2O_3 as gate dielectric(Session 6B : Wide Bandgap Materials and Devices, Power Devices)
• InAlN/GaN HEMT Structures on 4-in Silicon Grown by MOCVD(Session 6B : Wide Bandgap Materials and Devices, Power Devices)
• 4inch径Si基板上に作製した四元混晶InAlGaN/GaN HEMTエピ構造の特性評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• 4inch径Si基板上に作製した四元混晶InAlGaN/GaN HEMTエピ構造の特性評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• Si基板上p-InGaN/AlGaN/GaN HEMTのノーマリオフ特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• Si基板上p-InGaN/AlGaN/GaN HEMTのノーマリオフ特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• Si基板上p-InGaN/AlGaN/GaN HEMTのノーマリオフ特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• DLTS法によるSi(111)基板上n-GaN中の深い準位の測定(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• DLTS法によるSi(111)基板上n-GaN中の深い準位の測定(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• DLTS法によるSi(111)基板上n-GaN中の深い準位の測定(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• Si基板上GaN-HEMTによる5GHz50W出力電力特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)

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