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Musashi Institute of Technology | 論文
- An EELS study on an individual borondoped multi-walled carbon nanotube
- Space Charge Formation in LDPE/MgO Nano-composite Film under Ultra-high DC Electric Stress
- シリコンの低温酸化膜の組成・構造遷移層の酸化プロセス依存性(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 28aYB-2 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜/Si界面電子状態の直接観測(28aYB 表面界面電子物性,表面局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
- NH^*ラジカルを用いて形成した直接窒化シリコン窒化膜の界面構造と界面準位密度(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- Japanese Evaluated Nuclear Data Library Version 3 Revision-3 : JENDL-3.3
- 角度分解光電子分光法によるゲート絶縁膜/シリコン基板界面に形成される構造遷移層に関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)
- プラズマ窒化膜/Siの界面構造、サブナイトライド、価電子帯構造(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- Si(100),(110)面上の極薄Si_3N_4-Si界面構造とその電気的特性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性,AWAD2006)
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性
- 直接窒化膜特性のシリコン結晶面密度依存性(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 第1部-分野別の流れ- 聴覚分野
- 干渉フェムト秒レーザー加工によるナノマテリアルの創製と応用
- フェムト秒レーザー加工を用いたナノマテリアル創製
- 干渉フェムト秒レーザーを用いた薄膜加工によるナノ構造物の創製(S55-2 レーザ加工(2),S55 レーザ加工)
- 導波型PPLNによる可視光源開発(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
- 干渉フェムト秒レーザーを用いた新しいナノ構造の作製
- ZnOナノ構造体アレイによる大面積誘導放出紫外線光源の開発
- Transfer of Laser Dye by Laser-Induced Forward Transfer : Optics and Quantum Electronics
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