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産業技術総合研究所光技術研究部門 | 論文
- 次世代光・電子システムにおける高耐熱性Ag系反射薄膜に関する研究
- シリコンフォトニクス(招待講演)
- 高密度量子ドットを用いた1.3μm帯ストライプレーザの低しきい値電流動作(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
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- 1.3μm帯量子ドットDFBレーザ : 高密度量子ドットと縦型グレーティングの導入(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- 高密度高均一量子ドットを用いた量子ドットレーザ(半導体レーザ関連技術, 及び一般)
- SC-4-2 半導体可飽和吸収ミラーによるモード同期制御
- フェムト秒光パルス発生技術の現状と課題
- 2-2 超高速光デバイス基礎技術(2.次世代フォトニックネットワーク(次世代産業基盤を支えるフェムト秒テクノロジーの動向))
- フェムト秒時間域での励起子の超高速光制御
- 3-1 フェムト秒高輝度X線パルス発生装置(3.フェムト秒光源(次世代産業基盤を支えるフェムト秒テクノロジーの動向))
- フォトニック結晶方向性結合器スイッチ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- フォトニック結晶方向性結合器スイッチ(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
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- ポリフルオレン積層配向膜の作製及び構造評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術)
- ポリフルオレン積層配向膜の作製及び構造評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術)
- 摩擦転写法による高分子配向膜とその分子配列(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
- 摩擦転写法による高分子配向膜とその分子配列(有機EL及び関連有機材料, 低温poly-Siと有機TFT技術と一般)
- 摩擦転写法による高分子配向膜とその分子配列
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