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沖電気工業株式会社超LSI研究開発センタ | 論文
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- 希釈ウェット雰囲気中のシリコン熱酸化モデルの検討
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- プロセスシミュレーションの現状と課題
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- 高信頼性酸窒化膜形成とフラッシュメモリー及びCMOSFETへの応用
- 酸窒化トンネル膜劣化のバイアス極性依存と窒素原子分布