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東北大学工学研究科電子工学専攻 | 論文
- 27a-F-2 六方晶Co-Fe合金の磁場誘起容易軸転移(II)
- 27a-F-1 六方晶Co-Fe合金の磁場誘起変態
- 2a GM-10 六方晶Co-Fe合金の磁場認定容易軸転移
- α'-Fe-X(X=B, C, N)相の形成能と熱安定性
- α'-Fe-B相の合成と磁気特性
- 蒸着法で作製したNi-Fe/Mn-(Ni-Fe)積層膜の構造と交換磁気異方性
- 対向ターゲット式スパッタ法によるMgO単結晶基板上へのNi-Fe/Mn-Ni積層膜のエピタキシャル成長
- Ni-Fe/25 at%Ni-Mn膜の交換結合に及ぼす界面ガス吸着の影響 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/25 at%Ni-Mn積層膜の交換結合に及ぼす基板表面クリーニングの効果 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作成した強磁性トンネル接合(II)
- マイクロ波励起プラズマによる種々の酸化物絶縁膜の形成
- マイクロ波励起プラズマによるAl膜の酸化過程
- メカニカルアロイング法によって作製したCrO_2粉末のPMR効果
- 5-8 線ベクトル量子化によるHMMの顔認識の適用
- 低エネルギイオン照射を用いたボロンドープシリコン単結晶薄膜の形成
- 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
- 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
- 低エネルギイオン照射を用いたシリコン薄膜形成時に生じるドーパント(As, P, Sb, B)の不活性化
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