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東京理科大学基礎工学研究科電子応用工学専攻 | 論文
- C-10-9 モンテカルロ法を用いた物理ベース回路シミュレータによる GaAs-MESFET の雑音解析
- C-10-11 Monte Carlo法を用いた物理ベース回路シミュレータによるGaAs-MESFEETのモデリング
- C-10-15 InGaAs MOSFETの駆動電流に及ぼす電子後方散乱の理論的解析(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- EUV露光装置用光学素子加工技術の開発
- 118 FIB-CVD法で作製したDLCマイクロ構造体とSi基板間の界面微細構造(材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向)
- ナノインプリント技術のホログラムへの応用
- SOGレジストの電子ビーム露光特性
- FIB-CVD法を用いて作製したDLC膜の微細構造解析
- FIB-CVD法によるDLC成形プロセスとその特性評価(マイクロマテリアル)
- ナノ・マイクロ加工のためのドライエッチング技術
- 三次元ナノインプリントにおける金型作製技術の現状と将来展望 (特集2 ナノインプリント技術の応用と将来展望)
- SOG(Spin On Glass)膜を用いた3次元モールドの作製技術 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
- ナノインプリント技術の足跡 (特集 脚光をあびるナノインプリント技術)
- イオンビームと電子ビームを用いたダイヤモンドの微細加工
- 319 SOG をマスクとしたシンクロトロン放射光による微細加工
- 単結晶ダイヤモンドの反応性イオンビーム援用化学加工とXPSによる照射損傷評価
- SOGを用いて製作したダイヤモンドのマイクロ加工
- F_2レーザー表面改質による紫外線透過ポリマーの親水化と細胞観察用マイクロチップの作製
- 仮想作業空間におけるマルチモーダルインターフェースの効果 -視覚, 力覚及び聴覚情報の役割-
- 30aPS-26 Si(001)4×2-Ga構造のSTMと第一原理計算による研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))