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東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻 | 論文
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製(光記録,磁気記録)
- 化合物半導体集積光デバイスとドライエッチング技術
- 補間技術とバックグランド補償技術を用いた8-bit 600-MSps並列型ADCに関する研究(アナログ,アナデジ混載,RF及びセンサインタフェース回路)
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製 (磁気記録・情報ストレージ)
- 高い面内異方性磁界を有するFeCoB膜に及ぼすRu下地層の影響
- 結晶性Si/NiFe/FeCoB裏打ち軟磁性層を用いた垂直磁気記録媒体
- 垂直MTJにおけるFeCoの結晶配向によるTbFeCo/FeCo2層膜の磁気的結合への影響の評価
- 応力アシスト磁化反転を用いたGMR多層膜の作製
- Cu/Pt/Fe三層構造から作製した熱アシスト記録媒体用 FePtCu薄膜
- 高異方性磁界を有するRu/FeCoB膜の方向性結晶配列と異方的残留応力
- RE-TM膜を用いた垂直MTJ中のFeCoスピン偏極層の結晶配向と磁化特性の評価(固体メモリおよび一般)
- 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製(固体メモリおよび一般)
- RE-TM膜を用いた垂直MTJ中のFeCoスピン偏極層の結晶配向と磁化特性の評価(固体メモリ及び一般)
- 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製(固体メモリ及び一般)
- Cu/Pt/Fe三層膜によるFePtCu規則合金薄膜の特性制御(ヘッド・媒体および一般)
- 走査トンネル分光によるオクタンチオールSAM上のLu@C_のエネルギー準位の評価(有機材料,一般)
- 走査型トンネル顕微鏡によるオクタンチオール自己組織化単分子膜上の単一Lu内包フラーレンの分子配向変化の観察(発光・表示記録用有機材料およびデバイス・一般)
- 走査型トンネル顕微鏡によるオクタンチオール自己組織化単分子膜上の単一Lu内包フラーレンの分子配向変化の観察(発光・表示記録用有機材料及びデバイス・一般)
- アルカンチオール自己組織化単分子膜上における単一Lu内包フラーレンの走査トンネル分光マッピング(表示用有機材料・デバイスその他,一般)