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日本真空技術 (株) 超材料研究所 | 論文
- XHVスループット装置を用いたステンレス鋼チェンバーからのガス放出特性
- TiN成膜したステンレス箔の水素透過特性評価
- 2A06 JT-60第一壁保護膜の開発
- B-9 ダイナミックミキシング法を用いたTi-Ni形状記憶合金の表面改質に関する研究(第2報)
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるアルミナ膜の電気特性(II)
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるギャップ用AIN膜の作製
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe膜の電気特性
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜の電気特性
- 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタを用いた極薄アルミナ膜の作製
- 誘導結合高周波プラズマ支援マグネトロンスパッタ放電におけるイオンエネルギー分布
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性
- 誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のGMR特性 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- ICP支援スパッタ法を用いたNiFe/Cu多層膜のMR特性
- 誘導結合高周波プラズマ支援多元マグネトロンスパッタ法を用いたTiO_2/SiO_2多層膜の作製
- ARE(活性化反応性蒸着)法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- 4.3.6 超高真空技術とその応用(4. 未来はどうなる)(4.3 新分野はまねく)
- EF-09 RECORDING AND REPRODUCTING PROPERTIES OF MAGNETIC TAPE BY HIGH INCIDENCE ANGLE NUCLEATION METHOD(1982年インタ-マグ報告)
- AF-04 "GT TARGET", A NEW HIGH RATE SPUTTERING TARGET OF MAGNETIC MATERIALS(1982年インタ-マグ報告)
- AF-02 MAGNETIC PROPERTIES OF THIN FILMS PREPARED BY CONTINUOUS VAPOR DEPOSITION(1982年インタ-マグ報告)