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成蹊大学 工学部 電気電子工学科 | 論文
- プラズマレスドライエッチングによるシリコン表面処理とその応用
- 窒化酸化における窒素の導入過程と膜構造へ与える効果の検討
- フッ素及び励起窒素処理による酸化膜表面窒化プロセス(2)
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- リモートプラズマ励起CF_3COF/O_2ガスを用いたシリコン、酸化膜のエッチング
- 三フッ化塩素を用いたシリコン表面処理と光収集高効率化への応用
- シリコン窒化酸化過程の角度分解光電子分光解析
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- 無水HFガスを用いた自然酸化膜エッチングにおける表面状態の観察
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- 窒化酸化膜形成初期過程のXPS観察