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名古屋大学先端技術共同研究センター | 論文
- ファジィ・ニューラルネットワークを利用した複腕ロボットによる未知対象物の制御
- ニューラルネットワークを利用した未知環境でのハイブリッド制御
- P220 木質バイオマス連続液化プロセスの開発(ポスター発表)
- O202 木質バイオマスの空気吹き高温気流層型ガス化プロセスに関する研究(セッション1:技術〜熱化学〜,口頭発表)
- 流動層を用いた木質系バイオマス活性コークスの製造
- 3-75.微細木粉の抽出性評価に関する研究((17)炭化等2,Session 3 バイオマス等)
- 3-43.木質バイオマス加圧熱水液化残渣の性状およびその利用方法に関する研究((10)水熱反応等2,Session 3 バイオマス等)
- 3-42.木粉スラリーを用いた加圧熱水連続液化プロセスの開発((10)水熱反応等2,Session 3 バイオマス等)
- La_2O_3-Al_2O_3複合膜における定電圧ストレス印加時の局所的な電荷捕獲とその放出過程(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 電流検出型原子間力顕微鏡法を用いた極薄ゲート絶縁膜の信頼性評価(ナノテクノロジー時代の故障解析技術と解析ツール)
- 電流検出型原子間力顕微鏡を用いたLa_2O_3-Al_2O_3複合膜の局所リーク電流評価(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析(電子材料)
- 電流検出型原子間力顕微鏡を用いたゲート絶縁膜の局所リーク電流評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 電子注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析 : ゲート絶縁膜劣化機構の微視的評価(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Ge_Sn_xバッファ層上への伸張歪Ge層形成と歪・転位構造制御
- シリコン表面の窒化初期過程とエネルギーバンドギャップの形成
- CS-5-2 Si_Ge_X/Si(001)構造における転位および歪の評価と制御技術(CS-5.異種材料融合デバイス技術,シンポジウム)
- Ge基板上へのPr酸化膜の作製と評価(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- 仮想Ge基板上におけるGe_Sn_xバッファ層の歪および転位構造制御
- SOI基板上歪緩和SiGeバッファ層の転位構造とモザイシティ
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