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北見工業大学工学部電気電子工学科 | 論文
- Yシリサイドを介在させたCU_2Y/Siコンタクト系の熱的安定性の検討
- Cu_2Y/Siコンタクト系の熱的安定性とCuメタライゼーションへの適応性の検討
- 多相回路の素子感度解析に関する一検討
- 不均一等価伝送線路モデルによるマイクロストリップベンドの解析
- 同軸線路による材料定数の測定法についての検討
- Cu/Siコンタクト系におけるCu-Zrアモルファス合金膜の適用とZr系拡散バリヤの検討
- C-6-7 Cu配線のメタルキャップ層としてのZrB_x膜の特性(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 電磁波導波路固有値問題の Sakurai-Sugiura 射影法を用いたハイブリッドトレフツ有限要素解析法
- Al(001)/YSi2-x/Si(001)系における連続エピタキシャル成長
- 電磁波導波路固有値問題のSakurai-Sugiura射影法を用いたハイブリッドトレフツ有限要素解析法(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 電磁波導波路固有値問題のSakurai-Sugiura射影法を用いたハイブリッドトレフツ有限要素解析法(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 電磁波導波路固有値問題のSakurai-Sugiura射影法を用いたハイブリッドトレフツ有限要素解析法(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 組成を変化させたZrB_x薄膜の特性評価
- 電磁波導波路固有値問題のSakurai-Sugiura射影法を用いたハイブリッドトレフツ有限要素解析法(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 化学量論的なZrN薄膜の形成過程の検討とキャラクタリゼーション
- オージェ電子分光分析によるAl_3Zr/Zr/Siコンタクト系における界面固相反応の検討
- Al_3Zr金属間化合物膜の結晶化過程とその電気的特性について
- NiSi相の形成とCuコンタクトへの適用(薄膜プロセス・材料,一般)
- オージェ電子分光分析による合金膜のシリサイド形成初期過程の検討
- 植物シュート太陽電池モジュールを用いたソーラー水電解による自立エネルギー住宅の計画