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北見工業大学工学部機能材料工学科 | 論文
- C-6-10 Ta/Hf積層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程の検討
- 27aPS-16 R-123単結晶ウィスカーの育成とその異方性の評価(27aPS 領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 20aPS-90 Y-123固有ジョセフソン接合におけるフロー抵抗振動の観測(領域8ポスターセッション(低温),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など))
- Bi-2223ウィスカーの育成と評価
- TeとCaドープ圧粉体によるR_1Ba_2Cu_3O_x(R:Sm, Dy)相単結晶ウィスカーの育成
- TeとCaドープ圧粉体によるR_1Ba_2Cu_3O_x相単結晶ウィスカーの成長におよぼす熱処理の影響
- Al-Y合金薄膜に形成される表面酸化層のキャラクタリゼーションと形成過程の検討
- Al-Ti 合金薄膜表面酸化層のキャラクタリゼーション
- Al-Y合金薄膜表面酸化層のキャラクタリゼーション
- Nb/Si系の界面反応におけるmetal-richシリサイドの初期形成
- 内部酸化Ag-(MgNi)O_xシースBi系超伝導テープ線材の臨界電流密度におよぼす応力・ひずみと磁界の影響
- SVOバリアを変えたBi2223多芯テープのJcと交流損失に及ぼす加工・熱処理の影響
- フィラメント内面にSr_6V_2O_バリアを配したAg-シースBi2223多芯線材の超伝導特性
- Bi2223超伝導相とSr-V-O酸化物の界面反応
- Sr_6V_2O_バリアをもつAgシースBi2223多芯テープ線材の作製と超伝導特性
- Bi2223相とSr-V酸化物やSrCO_3相との界面反応
- C-6-3 化学量論的なTaN薄膜の(100)Si上での室温エピタキシャル成長(C-6.電子部品・材料,エレクトロニクス2)
- Nb/Hf 2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
- Ta-Zr合金による陽極酸化膜キャパシタの電気的特性に及ぼす熱処理温度と酸化膜厚低減の影響
- C-6-8 Ta-Zr合金による熱的に安定な高誘電率陽極酸化膜キャパシタの作製