スポンサーリンク
兵庫県立大学大学院工学研究科 | 論文
- 高張力鋼板熱間プレス成形への抵抗加熱の応用
- Si共鳴トンネリングMOSトランジスタによる多値論理回路の可能性
- 水素変調ドープa-Si膜のエキシマレーザアニーリング
- a-Si中の水素原子とエキシマ・レーザ結晶化 : 核形成・成長に大きな影響を与えるか?(シリコン関連材料の作製と評価)
- ダブルSOI上に形成したトンネル誘電体TFTのAM-OLED駆動回路への応用(半導体材料・デバイス)
- 低温ELAプロセスにおいてa-Si膜中水素が結晶化に与える影響(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 新構造TFTのAM-OLEDへの応用(シリコン関連材料の作製と評価)
- 固体YAG2 ωグリーンレーザーによる再結晶化シリコン薄膜の解析(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
- チャネル形成領域両端に極薄誘電体膜をもつ新たなTFTの提案と理論検討(半導体材料・デバイス)
- 次世代素子、Si 共鳴トンネルMOS トランジスタの提案及び理論検討
- チャネル両端に極薄誘電体膜を持つ新たなTFTの提案と理論検討
- 反応性DC-スパッタリング法により作製されたHfO_2薄膜の界面特性の評価 : 界面シリケート層の形成とHfO_2薄膜中トラップの関係の考察
- ELA により形成された poly-Si 結晶成長様式 : グレイン形状と水素の関係
- シリコン共鳴トンネリングMOSトランジスタ : サブ0.1μm世代を見据えて
- C-11-10 Si共鳴MOSトランジスタ(SRTMOST)の提案
- ELA法により形成したpoly-Si薄膜の回復・再結晶を考慮した成長モデル : 転位論に基づいて
- セルロースナノファイバーを用いたバイオマスナノコンポジットの力学特性
- 特集「構造用高分子材料の強靭化」の発刊にあたって
- CFRPマトリックス材としてのエポキシ樹脂