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フジクラ 光電子技研 | 論文
- ツリウム添加光ファイバを利用したEDFAの動的利得傾斜補償
- C-3-94 レベルイコライザー用小型ゲインブロックの開発
- B-13-3 ツインコアファイバを用いた光ファイバフィルタ
- B-10-102 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 位相シフト型長周期ファイバグレーティング
- 分散補償用ファイバBraggグレーティング
- Braggグレーティング書き込みによる光ファイバ高次モード解析
- 残留応力解法による長周期ファイバグレーティングを用いた利得平坦化EDFA
- WDM伝送用EDFAにおけるSpectral Hole-Burningの考察
- 温度無依存型長周期ファイバグレーティング
- C-3-66 ポリマー導波路Y分岐TOスイッチのヒータ分割制御
- ポリマー導波路熱光学効果型光スイッチの数値解析
- B-13-27 複合構造による広帯域小型WDMカプラ
- 偏波保持(PM)溶融型光機能部品
- 偏波面保持980/1550、1480/1550nm WDMファイバカプラ
- C-3-125 銅蒸気レーザ (波長255nm) によるGe-dopedシリカガラスの屈折率変化
- C-3-124 超高圧水素処理によるファイバグレーティングの作製
- C-3-120 スラント型光ファイバーグレーティングを用いた40nm帯域利得等化器
- B-13-3 全ファイバ型980/1550mm偏波面保持WDMカプラ
- B-13-9 ファイバ型カプラの耐高光入力特性