高井 幹夫 | 大阪大学基礎工学部

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概要

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• 大阪大学基礎工学部の論文著者

関連著者

• 高井 幹夫

  大阪大学基礎工学部

• 高井 幹夫

  大阪大学極限量子科学研究センター

• 堀端 慎二

  三菱電機先端技術総合研究所

• 堀端 慎二

  三菱電機材料研究所

• 由良 信介

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 山下 雅己

  大阪大学基礎工学部電気工学科

• 由良 信介

  三菱電機材料デバイス研究所

• 乙武 正文

  三菱電機材料デバイス研究所

• 西村 正

  三菱電機 (株) Ulsi技術開発センター

• 西村 正

  三菱電機株式会社ulsi技術開発センター

• 西村 正

  三菱電機ULSI開発研究所

• 大野 吉和

  三菱電機ULSI開発研究所

• 木村 広嗣

  三菱電機ULSI開発研究所

• 佐山 弘和

  大阪大学基礎工学部

• 原 成憲

  大阪大学基礎工学部

• 大野 吉和

  三菱電機 ULSI開発研究所

• 西村 正

  三菱電機 Ulsi技開セ

• 西村 正

  三菱電機 Ulsi開セ

• 西村 正

  三菱電機株式会社 Lsi 研究所

• 高井 幹夫

  大阪大学基礎工学部・極限物質研究センター

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著作論文

• マイクロプローブによるDRAMソフトエラーの評価
• n型多孔質シリコンFEAの作製とその特性 : 情報ディスプレイ
• n形多孔質シリコンFEAの作製とその特性
• 中高エネルギー集束イオンビームの現状とその応用

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