小沼 和夫 | NEC シリコンシステム研究所

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概要

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• NEC シリコンシステム研究所の論文著者

NEC シリコンシステム研究所 | 論文

• 分極緩和を考慮したFeRAM非線形信頼性予測モデル
• 次世代LSIデバイス技術の将来展望とCMP技術への期待
• EB直描を用いた先端デバイスの試作
• 低誘電率有機膜に銅を埋め込んだ高性能配線プロセスの開発
• パワースイングスパッタ法を用いたMOCVD-Cu配線用TaN膜の評価

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