神力 博 | 東京エレクトロンat(株)枚葉成膜システム開発本部

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概要

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関連著者

• 神力 博

  東京エレクトロン(株)

• 神力 博

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• 高橋 毅

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• 青山 真太郎

  東京エレクトロンAT(株)枚葉成膜システム開発本部プロセス開発プロジェクト

• 青山 真太郎

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• 久保 万身

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• 井下田 真信

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著作論文

• CVD-Ta_2O_5, ZrO_2膜の表面ラフネス低減
• 真空紫外光を用いた極薄界面酸化膜、酸窒化膜の形成
• Hf[N(C_2H_5)_2]_4を用いたMOCVDによるHfO_2膜の形成技術

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