青山 真太郎 | 東京エレクトロンAT(株)枚葉成膜システム開発本部プロセス開発プロジェクト

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概要

• 同名の論文著者
• 東京エレクトロンAT(株)枚葉成膜システム開発本部プロセス開発プロジェクトの論文著者

関連著者

• 神力 博

  東京エレクトロン(株)

• 青山 真太郎

  東京エレクトロンAT(株)枚葉成膜システム開発本部プロセス開発プロジェクト

• 神力 博

  東京エレクトロンat(株)枚葉成膜システム開発本部

• 青山 真太郎

  東京エレクトロンat(株)枚葉成膜システム開発本部

• 高橋 毅

  東京エレクトロンat(株) 枚葉成膜システム開発本部

• 井下田 真信

  東京エレクトロンAT(株)枚葉成膜システム開発本部

著作論文

• CVD-Ta_2O_5, ZrO_2膜の表面ラフネス低減
• 真空紫外光を用いた極薄界面酸化膜、酸窒化膜の形成

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