大山 昌憲 | (株)サンバック
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概要
関連著者
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大山 昌憲
(株)サンバック
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大山 昌憲
東京高専
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大山 昌憲
東京工業高等専門学校
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伊藤 浩
東京工業高等専門学校電気工学科
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玉田 耕治
東京高専SPHERE TOKYOプロジェクトチーム
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大山 昌憲
国立東京工業高等専門学校電気工学科
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竹内 学
茨城大学
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伊藤 浩
国立東京工業高等専門学校電気工学科
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竹内 学
茨城大学 工学部
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佐藤 有紀
名古屋大学 工学部
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高橋 三男
東京工業高等専門学校
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玉田 耕治
東京工業高等専門学校
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柚賀 正光
Graduate School Of Science And Engineering Ibaraki University
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伊藤 浩
東京工業高等専門学校
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山口 明
東大・生研
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興戸 正純
名古屋大学大学院工学研究科マテリアル理工学専攻材料工学分野
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山本 良一
東大先端研
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近藤 昇一
東理大・理
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高橋 三男
東京高専
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竹内 学
茨城大学工学部
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徐 義孝
東大生産研
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藤田 安彦
東京都科技大 大学院工学研究科
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山口 明
東大先端研
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小野 勇
東理大・理
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三田 茂
東京理科大学・理
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小野 勇
東理大理学部
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近藤 昇一
東理大理学部
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長谷川 和也
東理大理
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三田 茂
東理大理
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柚賀 正光
東京工業高等専門学校
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吉岡 学洋
東京工業高等専門学校
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竹内 舞
東京工業高等専門学校
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藤田 安彦
東京都立科学技術大学
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松田 正平
粟村製作所
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徐 義孝
東大先端研
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屠 耿
東大先端研
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興戸 正純
名古屋大学大学院工学研究科
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屠 耿
東大生研
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大山 昌憲
Department of Electrical Engineering,Tokyo National College of Technology
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竹内 学
Department of Electrical and Electronic Engineering,Ibaraki University
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柚賀 正光
茨城大学 大学院理工学研究科
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興戸 正純
名古屋大学大学院工学研究科マテリアル理工学専攻
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興戸 正純
名古屋大学 大学院工学研究科
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大山 昌憲
(株)さがみはら産業創造センター
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佐藤 有紀
(株)さがみはら産業創造センター
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興戸 正純
名古屋大学 エコトピア科学研究所
著作論文
- 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製した結晶性GaTe薄膜の膜構造と光吸収スペクトル
- 電子ビーム蒸着法により石英ガラス上に作製した GaSe の薄膜成長と光学的性質
- 3B17 STMによる液晶分子の配向観察
- エチレングリコール溶液中におけるシリコン陽極酸化膜のX線光電子分光法による解析
- 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製した結晶性GaTe薄膜の膜構造と光吸収スペクトル
- 化合物半導体薄膜の低温結晶成長技術
- 28a-K-1 コバルト/貴金属系多層膜の輸送的性質
- 水素化非晶質Cuド-ピングSiC薄膜の物性と応用
- 基板バイアスを用いた電子ビーム蒸着法によるセレン化ガリウム(GaSe)薄膜の作製
- 磁性不純物同時蒸着法によるZnSe薄膜の電気伝導
- センサ-と化合物半導体機能性材料 (『技術懇談会』平成7年度第1回懇談会特別講演・研究紹介概要)
- 電子ビーム蒸着法による層状性GaS薄膜作製
- 電子ビーム蒸着法による層状性GaSe薄膜作製
- 化学蒸着 (特集 高機能を付与する成膜技術最前線) -- (プロセス技術編)
- MIS構造Al-Al_2O_3-GaSのV-I特性
- RFスパッタリングによるGa_2S_薄膜の基礎特性
- RFスパッタリングによるSiC薄膜の電気的性質
- エチレングリコール溶液中における単結晶シリコン陽極酸化の電解液温度の影響
- 電流遮断法による単結晶シリコン陽極酸化の解析
- CVD 法による機能性材料(材料表面機能化とその材料特性)
- 界面インピーダンス法による銅とはんだの接合界面評価