高橋 健輔 | 北海道工業大学大学院応用電子工学専攻
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概要
関連著者
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澤田 孝幸
北海道工業大学
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高橋 健輔
北海道工業大学
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高橋 健輔
北海道工業大学大学院応用電子工学専攻
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鈴木 敏正
日本工業大学
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金 聖祐
日本工業大学
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米田 里志
北海道工業大学
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米田 里志
北海道工業大学応用電子工学専攻
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今井 和明
北海道工業大学
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木村 尚仁
北海道工業大学工学部電気電子工学科
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今井 和明
北海道工業大学創生工学部
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木村 尚仁
北海道工業大学創生工学部
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木村 尚仁
北海道大学電子科学研究所
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Kimura Naohito
Department Of Applied Electronics Hokkaido Institute Of Technology
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伊勢 京介
北海道工業大学大学院応用電子工学専攻
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北守 一隆
北海道工業大学
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北守 一隆
北海道工大
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小林 宏昭
北海道工業大学電気電子工学科
著作論文
- Ni/i-AlGaN/GaNゲート構造の電気的特性評価と熱処理の影響(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- Ni/i-AlGaN/GaNゲート構造の電気的特性評価と熱処理の影響(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- Ni/i-AlGaN/GaNゲート構造の電気的特性評価と熱処理の影響(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- RF-MBE法によるInN薄膜の成長と評価
- Al_xGa_N/GaN HFETゲート構造における表面・界面電子特性の評価と制御