柳田 浩行 | 静岡大学電子工学研究所

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概要

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関連著者

• 柳田 浩行

  静岡大学電子工学研究所

• 菊澤 充男

  静大電子

• 早川 泰弘

  静岡大学電子工学研究所

• 熊川 征司

  静岡大学電子工学研究所

• 小山 忠信

  静岡大学電子工学研究所

• 飯田 晋

  静大電研

• 菊澤 充男

  静岡大学電子工学研究所

• 小山 忠信

  静大電子研

• 早川 泰弘

  静大電子研

• 熊川 征司

  静大電子研

• 早川 泰弘

  静岡大電子研

• 熊川 征司

  静岡大電子研

• 飯田 晋

  静岡大学電子工学研究所

• 飯田 晋

  静大電子研

• 桜井 孝子

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• 柳田 浩行

  静大電子

• 菊澤 充男

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著作論文

• 窒化シリコン膜付きGaAs基板上へのInGaAs横方向成長
• 液相成長法による溝付きGaAs基板上へのInGaAs横方向成長 : 半導体液相成長I
• 液相成長法によるInGaAs/GaAsヘテロ エピタキシー
• 液相成長法によるInGaAs/GaAsヘテロエピタキシー
• InGaAs/GaAsヘテロエピキタシー : 融液成長(一般)II

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