百瀬 英明 | 東京工業大学大学院

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• 百瀬 英明

  東京工業大学大学院

• 百瀬 英明

  東工大院

• 大竹 尚登

  東工大

• 谷口 信人

  東工大院

• 楊 旭東

  東工大院

• 大竹 尚登

  東京工業大学大学院理工学研究科機械工学専攻

• 安原 鋭幸

  東京工業大学

• 大竹 尚登

  東工大院

• 安原 鋭幸

  東工大院

• 加藤 和典

  湘南工科大学工学部

• 楊 旭東

  東京工業大学大学院

• 安原 鋭幸

  東工大・院

• 大竹 尚登

  東京工業大学

• 加藤 和典

  東工大院

• YASUHARA Toshiyuki

  Tokyo Institute of Technology

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著作論文

• K-1029 RFマグネトロンスパッタ法によるB-C-N系薄膜の合成(S14-2 表面改質材の特性(2))(S14 表面改質材の特性)
• RFマグネトロンスパッタ法によるB-C-N薄膜の合成(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
• 513 溶射プラズマ CVD 法による Ti-DLC 膜の合成
• 320 B-C-N膜の気相合成及びその耐熱性の評価(OS 薄膜特性)
• 108 rfマグネトロンスパッタ法によるB-C-N系薄膜の合成(OS 材料の超精密加工とマイクロ加工)

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