下位 幸弘 | 産総研

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概要

• 同名の論文著者
• 産総研の論文著者

関連著者

• 下位 幸弘

  産総研

• 下位 幸弘

  産総研ナノテク

• 黒田 新一

  名大院工

• 丸本 一弘

  筑波大院数物:jstさきがけ

• 阿部 修治

  産業技術総合研究所 ナノテクノロジー研究部門

• 阿部 修治

  産総研

• 岩野 薫

  高エネルギー加速器研究機構 物構研

• 下位 幸弘

  産業技術総合研究所 ナノテク

• 若林 克法

  物材機構

• 伊東 裕

  名大院工

• 田中 久暁

  名大院工

• 渡辺 峻一郎

  名大院工

• 丸本 一弘

  筑波大院数物

• 岩野 薫

  横浜国大・工物構研

• 若林 克法

  物材機構:jstさきがけ

• 若林 克法

  広島大学大学院先端物質科学研究科:科学技術振興機構さきがけ

• 若林 克法

  広島大学先端物質科学研究科

• 針谷 喜久雄

  産総研

• 山城 敦

  産総研

• 若林 克法

  (独)物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点

• 丸本 一弘

  名大院工

• 針谷 喜久雄

  産総研ナノテク部門

• 下位 幸弘

  産業技術総合研究所 ナノテクノロジー研究部門

• 岩野 薫

  物構研

• 岩田 隆道

  名大院工

• 下位 幸弘

  産総研ナノテク部門ナノ機能合成研究体:分子研

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著作論文

• 20aXF-9 メビウス形状パイ電子系リボンにおける新しい電子状態 : トポロジー効果と電荷スピン競合
• 19pRG-14 ESR法による高分子MISデバイス界面における分子配向評価 : 基板平滑度依存性(金属架橋・結晶成長・高分子,領域7,分子性固体・有機導体)
• 21pYD-2 擬1次元分子性結晶EDO-TTF_2(PF_6)の高温相構造に基づく第一原理電子状態計算(21pYD 領域5,領域7合同 光誘起相転移III(電荷移動錯体・その他),領域5(光物性))
• 20aWB-3 MISデバイス構造中の立体規則性ポリアルキルチオフェンのESRによる分子配向評価(導電性高分子,金属鎖(ポリマー,MX,MMX),領域7(分子性固体・有機導体))

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