古村 雄二 | フィルブリッジ

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概要

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• フィルブリッジの論文著者

関連著者

• 古村 雄二

  フィルブリッジ

• 益 一哉

  東京工業大学

• 高橋 善和

  (株)アルバック筑波超材料研究所

• 大場 隆之

  東京大学大学院工学系研究科総合研究機構

• 坂本 学

  東京工業大学精密工学研究所

• 三沢 信裕

  富士通株式会社

• 星野 雅孝

  富士通プロセス開発部

• 三沢 信裕

  富士通プロセス開発部

• 角田 一夫

  富士通プロセス開発部

• 大迫 なぎさ

  富士通プロセス開発部

• 岡本 茂

  富士通プロセス開発部

• 大場 隆之

  富士通プロセス開発部

• 八木 春良

  富士通プロセス開発部

• 山田 雅雄

  富士通プロセス開発部

• 古村 雄二

  富士通プロセス開発部

• 石川 道夫

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 畠中 正信

  (株)アルバック

• 石川 道夫

  株式会社アルバック半導体技術研究所

• 高橋 善和

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 杉本 恵理

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 李 珍一

  (株)アルバック半導体技術研究所

• 山田 雅雄

  富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

• 畠中 正信

  (株)アルバック半導体技術研究所

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著作論文

• スパッタ法とCVD法とスパッタ・リフロー法とで成膜したCMP-Cu配線の特性比較
• MPA (methylpyrrolidine alane)を用いたAl CVD技術

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