小林 良平 | (株)シクスオン

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• 小林 良平

  (株)シクスオン

• 市村 正也

  名古屋工業大学機能工学専攻

• 小林 良平

  名古屋工業大学電気情報工学科

• 小林 良平

  名古屋工業大学

• 市村 正也

  名古屋工業大学、機能工学専攻

• 市村 正也

  名古屋工業大学

• 林 利彦

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• 木下 博之

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• 古庄 智明

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• 佐々木 信

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• 塩見 弘

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• 塩見 弘

  シクスオン

• 佐藤 直也

  名古屋工業大学

• 荒井 英輔

  名古屋工業大学大学院工学研究科

• 宮脇 哲哉

  名古屋工業大学

• 荒井 英輔

  名古屋工業大学

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著作論文

• 高品質SiCウェーハの開発(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 高品質SiCウェーハの開発(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 高品質SiCウェーハの開発(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
• 光化学堆積法を用いたZnS薄膜の作製と評価(III族窒化物研究の最前線)
• 光化学堆積法を用いたZnS薄膜の作製と評価(III族窒化物研究の最前線)
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• 光化学堆積(PCD)法によるZnS薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 光化学堆積(PCD)法によるZnS薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
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