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羽根 邦夫 | ソニー超LSI研究所
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概要
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ソニー超LSI研究所の論文著者
ソニー超LSI研究所 | 論文
NH_3添加H_2O/TEOSプラズマCVDによる層間絶縁膜形成
表面反応を考慮したデポジションのモデル
光リソグラフィーにおける反射防止技術
レジスト膜厚に対する温度、湿度の影響
活性化領域に埋め込まれたフローティング・ゲートを有するセルの特性 : メモリー・セルの製法とその電気的特性
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