矢元 久良 | 株式会社ワコム電創
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概要
関連著者
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矢元 久良
株式会社ワコム電創
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豊田 一行
(株)日立国際電気
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豊田 一行
日立国際電気
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国井 泰夫
(株)日立国際電気
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石田 丈繁
日立国際電気
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河西 弘人
ソニー(株)snc Lsiテクノロジー開発部門
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久須本 典熙
ソニー(株)SNC LSIテクノロジー開発部門
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山中 英雄
ソニー(株)SNC LSIテクノロジー開発部門
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矢元 久良
ソニー(株)SNC LSIテクノロジー開発部門
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谷口 武志
(株)日立国際電気電子機械事業部
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石田 丈繁
(株)日立国際電気電子機械事業部
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国井 泰夫
(株)日立国際電気電子機械事業部
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梅田 優
株式会社ワコム研究所
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都田 昌之
株式会社ワコム研究所
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都田 昌之
山形大学工学部物質工学科
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高橋 匠
山形大学工学部
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上村 大樹
MIRAI-Selete
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上村 大樹
山形大学工学部
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縄野 真久
山形大学工学部
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梅田 優
株式会社 渡辺商行
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楠原 昌樹
株式会社 渡辺商行
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深川 満
株式会社ワコム電創
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庄司 正文
株式会社ワコム電創
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阿久戸 和哉
株式会社ワコム電創
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都田 昌之
山形大学工学部
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阿久戸 和哉
国立大学法人山形大学大学院理工学研究科
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上村 大樹
富士通セミコンダクタ
著作論文
- 触媒CVD法による高移動度poly-Si TFTの作製
- 触媒CVD法による高移動度poly-Si TFTの作製
- Flash-MOCVD強誘電体薄膜形成装置の基礎と量産化技術(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)