国井 泰夫 | (株)日立国際電気

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概要

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• 国井 泰夫

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• 豊田 一行

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• 豊田 一行

  日立国際電気

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著作論文

• HfO2系 High-k 材料クリーニングガスの研究
• 触媒CVD法による高移動度poly-Si TFTの作製
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• HfSiON薄膜の形成における In-Situ ポスト窒化アニールの影響

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