渡部 宏治 | NECシリコンシステム研究所

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概要

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著作論文

• CVD法により形成したTiSi_2膜とSi基板との界面における形態安定性 : 気相成長I
• HREM断面観察を用いたSiO_2/Si界面平坦性の定量測定
• 溶液から成長する樹枝状氷晶の側枝の形成 : 基礎II

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