応 文標 | 上海応用技術学院数理教学部
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概要
関連著者
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上浦 良友
大阪府立大学総合教育研究機構
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溝川 悠介
大阪府立大学総合教育研究機構
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応 文標
上海応用技術学院数理教学部
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応 文標
大阪府立大学総合科学部
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棚橋 克人
大阪府立大学先端科学研究所
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川本 和則
株式会社デンソー
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飯田 真喜男
株式会社デンソー
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棚橋 克人
大阪府立大学総合科学部
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棚橋 克人
大阪府立大学先端科学研研所
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楊 偉毅
School Of Electronic Engineering & Optoelectronic Technology Nanjing University Of Science &
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濱田 利和
大阪府立大学総合科学部
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飯田 眞喜男
株式会社デンソー
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西松 正文
大阪府立大学総合科学部
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佐野 雄一
大阪府立大学総合教育研究機構
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井上 直久
大阪府大先端研
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井上 直久
大阪府大
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井上 直久
大阪府立大学先端科学研究所
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井上 直久
大阪府立大学 先端科学研究所
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井口 晴義
大阪府立大学総合教育研究機構
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渡辺 恵子
大阪府立大学総合教育研究機構
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小西 朗登
大阪府立大学総合科学部
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山本 道代
大阪府立大学総合科学部
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兪 永武
大阪府立大学総合科学部
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飯田 真喜男
日本電装株式会社
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磯部 良彦
日本電装株式会社
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川本 和則
日本電装株式会社
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〓 永斌
大阪府立大学総合科学部
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井上 直久
大阪府立大先端研
著作論文
- 高濃度リンドープシリコン表面のAFM観察
- 高濃度リンドープシリコンの特異な表面形状の原子間力顕微鏡観察
- 角度依存X線光電子分光法および原子間力顕微鏡による高濃度リン添加シリコン表面の初期酸化の評価
- 酸化膜/リンドープシリコンの化学エッチングによる深さ方向X線光電子分光法分析
- 加熱による高濃度リンドープシリコン表面のリンの挙動-XPSおよびSIMS-
- 極薄い保護酸化膜を有した高濃度リンドープシリコンの昇温清浄化過程