大橋 俊哉 | 静岡大学電子工学研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 静岡大学電子工学研究所の論文著者

関連著者

• 中村 篤志

  静岡大学電子工学研究所

• 天明 二郎

  静岡大学電子工学研究所

• 大橋 俊哉

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 石原 純二

  静岡大学電子工学研究所

• 山本 兼司

  静岡大学創造科学技術大学院

• 坪井 貴子

  静岡大学電子工学研究所

• ガンジル サンディップ

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学・電子工学研究所

著作論文

• ZnO系DH接合の成長とそのEL発光評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• ZnO系DH接合の成長とそのEL発光評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• ZnO系DH接合の成長とそのEL発光評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• RPE-MOCVD法を用いた可視域Zn_CdxO薄膜成長(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• RPE-MOCVD法を用いた可視域Zn_CdxO薄膜成長(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))
• RPE-MOCVD法を用いた可視域Zn_CdxO薄膜成長(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si, SiGe,その他の電子材料))

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