寒川 誠二 | 東北大学 流体科学研究所 知的ナノプロセス研究分野

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関連著者

• 寒川 誠二

  東北大学 流体科学研究所 知的ナノプロセス研究分野

• 寒川 誠二

  東北大学・流体科学研究所・流体融合研究センター

• 寒川 誠二

  東北大学 流体科学研究所・知的ナノプロセス研究分野

• 寒川 誠二

  東北大学流体科学研究所

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• MINEMURA Youichi

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• FUKUDA Seiichi

  Semiconductor Netwark Company, Sony Corporation

• 寒川 誠二

  日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所

• Fukuda Seiichi

  Semiconductor Netwark Company Sony Corporation

• Samukawa Seiji

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• 寒川 誠二

  日本電気(株) マイクロエレクトロニクス研究所lsi基礎研究部研究専門課

• 寒川 誠二

  日本電気(株)

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著作論文

• 革新的ナノデバイス実現のための中性粒子ビームプロセス
• Ultimate Top-down Etching Processes for Future Nanoscale Devices: Advanced Neutral-Beam Etching
• 新しいビームプロセスによるトップダウン加工 : 究極のトップダウン加工を目指して
• 中性粒子ビームによるダメージフリー高精度プロセス
• Ultrathin Oxynitride Films Formed by Using Pulse-Time-Modulated Nitrogen Beams
• 環境共生型・新ガスケミストリーによる高精度シリコン酸化膜エッチング
• パルス変調プラズマ - プラズマの制御とそのプロセスへの展開 -
• 材料の構造設計可能な低温・低損傷・中性粒子ビーム励起堆積技術

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