FUKUDA Seiichi | Semiconductor Netwark Company, Sony Corporation

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概要

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• 同名の論文著者
• Semiconductor Netwark Company, Sony Corporationの論文著者

関連著者

• 寒川 誠二

  東北大学 流体科学研究所 知的ナノプロセス研究分野

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• MINEMURA Youichi

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• FUKUDA Seiichi

  Semiconductor Netwark Company, Sony Corporation

• Fukuda Seiichi

  Semiconductor Netwark Company Sony Corporation

• Samukawa Seiji

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

著作論文

• Ultrathin Oxynitride Films Formed by Using Pulse-Time-Modulated Nitrogen Beams

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