浦部 和雄 | 静岡大学電子工学研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 静岡大学電子工学研究所の論文著者

関連著者

• 浦部 和雄

  静岡大学電子工学研究所

• 喜多尾 道火児

  静岡大学電子工学研究所

• 喜多尾 道火児

  静岡大 電子工研

• 山田 祥二

  静岡大学電子工学研究所

• 山田 祥二

  静岡理工科大学電子工学科

• 井沢 邦邦之

  静岡大学電子工学研究所

• 井澤 邦之

  フィガロ技研(株)

• 山本 徳士

  静岡大学電子工学研究所

• 巻淵 正樹

  静岡大学電子工学研究所

• 野口 正人

  静岡大学電子工学研究所

• 石田 俊正

  岡崎国立共同研究機構分子化学研究所

• 浦部 和雄[他]

  静岡大学電子工学研究所

• 小南 裕子

  静岡大学電子工学研究所

• 中村 恒夫

  シャープ(株)

• 吉岡 達男

  松下電器産業(株)液晶開発センター

• 藤波 達雄

  静岡大学工学部工業化学科

• 中村 彰男

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 立岡 浩一

  静岡大学電子科学研究科

• 中村 恒夫

  シャープ株式会社

• 立岡 浩一

  静岡大学工業短期大学部電気工学科

• 桑野 三郎

  静岡県静岡工業技術センター 現 : 常葉学園短期大学

• 小松 剛

  静岡県静岡工業技術センター

• Komatsu Takeshi

  Industrial Research Institute Of Shizuoka Prefecture

• 吉岡 達男

  松下電器産業(株)

• 蛭田 陽一

  (株)東芝総合研究所

• 藤波 達雄

  静岡大学工学部材料精密化学科

• 桑野 三郎

  静岡県静岡工技セ

• 山本 徳士

  (株)デンソー

• 大島 宣浩

  静岡大学電子工学研究所

• 川内 敏央

  静岡大学電子工学研究所

• 立岡 浩一

  静岡大学電子工学研究所

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著作論文

• エレクトロクロミック(EC)膜の水素導入スパッタ法による作製とその性質
• エレクトロクミック(EC)膜の水素導入スパッタ法による作製とその性質
• 酸化ニッケルEC膜の電気化学測定
• 酸化ニッケルEC膜の電気化学測定
• WO3膜のエレクトロクロミック特性に対する結晶化の効果
• エレクトロクロミックWO_3スパッタ膜の赤外吸収スペクトル
• スパッタリング雰囲気への水素導入による酸化ニッケル膜の作製とエレクトロクロミック特性
• 酸化ニッケル・スパッタ膜の作製とエレクトロクロミック特性
• アモルファス酸化タングステン膜における着色領域
• スパッタ法により作製した酸化ニッケル膜のアニオン注入によるEC着色現象
• エレクトロクロミックWO_3膜の作製法の違いによる赤外吸収特性の変化
• WO_3スパッタ膜の赤外吸収スペクトルとその分子振動解析
• 酸化タングステンスパッタ膜のエレクトロクロミズム
• WO_3膜のエレクトロクロミック特性に対する結晶化の効果
• 固体電解質Ta_2O_5の水素導入スパッタ膜の作製とECセルへの応用
• 酸化タングステンEC膜における残留電荷と赤外吸収
• スパッタ法によるTiO_2膜の作製とEC特性
• 光吸収スペクトルによる非晶質酸化タングステン膜の評価

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