エレクトロクロミック(EC)膜の水素導入スパッタ法による作製とその性質
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概要
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エレクトロクロミック(EC)現象を示す遷移金属酸化物(WO_3およびNiO)膜を水素導入スパッタ法で作製した.この方法はスパッタ雰囲気(Ar/O_2)にさらに水素を導入する手法である.こうして得られたEC膜は水素導入量を変えることによって, as-depo.状態で酸化・還元の程度を任意に制御した膜を作ることができた.即ち任意の色の濃さを持つas-depo.膜を作ることができた.これはEC現象には膜内に含まれる水分子, 水酸基などによって強く影響されるためである.作製時に導入された水素と電気化学的に注入された水素の役割について, 赤外吸収や着色効率などの解析によって比較検討した.
- 1999-01-22
著者
-
喜多尾 道火児
静岡大学電子工学研究所
-
浦部 和雄
静岡大学電子工学研究所
-
井沢 邦邦之
静岡大学電子工学研究所
-
井澤 邦之
フィガロ技研(株)
-
山本 徳士
静岡大学電子工学研究所
-
巻淵 正樹
静岡大学電子工学研究所
-
喜多尾 道火児
静岡大 電子工研
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