大岩 朝洋 | 東京工業大学精密工学研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
柴田 宏
東京工業大学精密工学研究所
-
大岩 朝洋
東京工業大学精密工学研究所
-
徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所
-
徳光 永輔
東京工業大学
-
徳光 永輔
東京工業大学 精密工学研究所
-
徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所:東北大学電気通信研究所it-21センター
-
近藤 洋平
東京工業大学精密工学研究所
著作論文
- 強誘電体および高誘電率材料をゲート絶縁膜に用いた酸化物チャネル薄膜トランジスタ(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- 強誘電体および高誘電率材料をゲート絶縁膜に用いた酸化物チャネル薄膜トランジスタ(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- 酸化物チャネル強誘電体ゲート不揮発性メモリ素子の作製と評価(不揮発メモリと関連技術及び一般)
- C-10-4 酸化物チャネル強誘電体ゲートトランジスタにおけるメモリ特性(C-10. 電子デバイス,一般セッション)