佐藤 学 | (株)東京精密

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概要

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• 酒井 謙児

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• 佐藤 学

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• 土肥 俊郎

  埼玉大学教育学部

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  埼玉大学 教育学部

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  埼玉大学

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著作論文

• 酸化膜プラナリゼーションシ・ポリシング/CMPの基礎的検討-ダイレクトエアー加圧法とパッドの効果-
• メタル膜CMPの終端検出
• デバイスウェハの表面基準研磨加工
• LSIモデルTEGウエハによるプラナリゼ-ションポリシング/CMPの研究(第1報)ウエハの保持・加工法とパッドの差異による加工精度

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