藤井 眞治 | 半導体MIRAI-ASET

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概要

• 同名の論文著者
• 半導体MIRAI-ASETの論文著者

関連著者

• 右田 真司

  半導体MIRAIプロジェクト-ナノ電子デバイス研究センター

• 鳥海 明

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 堀川 剛

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 鳥海 明

  半導体mirai-産総研asrc:東京大学工学部マテリアル工学科

• 宮田 典幸

  アトムテクノロジー研究体

• 鳥海 明

  東京大学

• 宮田 典幸

  次世代半導体研究センター

• 宮田 典幸

  半導体MIRAI-産総研ASRC

• 藤井 眞治

  半導体MIRAI-ASET

• 右田 真司

  産業技術総合研究所ナノ電子デバイス研究センター

• 藤井 眞治

  半導体mirai-aset:(現)松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター)

• 右田 真司

  半導体mirai-産総研asrc

• 鳥海 明

  半導体MIRAI-産総研,東大工

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著作論文

• 堆積温度上昇によるMOCVD HfO_2膜のフッ酸エッチング速度の急激な低下(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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