中野 義彦 | (株)東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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早瀬 修二
(株)東芝研究開発センター
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中野 義彦
(株)東芝研究開発センター
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早瀬 修二
(株)東芝研究開発センター材料デバイス研究所
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可児 利佳子
(株)東芝研究開発センタ
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早瀬 修二
(株)東芝研究開発センタ
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真島 豊
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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西沢 秀之
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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大岩 徳久
(株)東芝セミコンダクター社
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真島 豊
東芝研究開発センター
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西沢 秀之
東芝研究開発センター
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中野 義彦
東芝研究開発センター
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平岡 俊郎
東芝研究開発センター
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早瀬 修二
東芝研究開発センター
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西沢 秀之
(株)東芝研究開発センター記憶材料・デバイスラボラトリー
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西沢 秀之
(株)東芝 研究開発センター
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塩原 英志
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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吉川 佐和子
(株)東芝研究開発センター
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太田 英男
(株)東芝研究開発センター
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佐藤 康彦
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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三好 靖郎
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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大西 廉伸
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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阿部 淳子
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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松山 日出人
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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濱田 吉隆
信越化学(株)シリコーン電子材料技術研究所
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平岡 俊郎
(株)東芝研究開発センター材料デバイス研究所
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濱田 吉隆
信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所
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大岩 徳久
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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真島 豊
東京工業大学応用セラミックス研究所:crest-jst
著作論文
- ポリシランのホール輸送機構における新しい転移
- ポリシランを用いたLSI超微細加工用パターントランスファー膜特性と分子構造との相関 : 反射防止膜とパターントランスファー特性を兼ね備えたLSI微細加工用材料
- アルカリ水溶液で現像できる次世代リソグラフィー用ポリシラン
- 耐久性がある機能性ポリシラン配向薄膜の作製とその特性 (先端ポリマ-材料)
- 機能性ポリシランの合成とそれを使った配向薄膜