大西 廉伸 | (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

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概要

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関連著者

• 大西 廉伸

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 大岩 徳久

  (株)東芝セミコンダクター社

• 塩原 英志

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 早瀬 修二

  (株)東芝研究開発センター

• 佐藤 康彦

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 阿部 淳子

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 松山 日出人

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 伊藤 武男

  東芝

• 伊藤 武男

  株式会社東芝総合研究所

• 吉川 佐和子

  (株)東芝研究開発センター

• 中野 義彦

  (株)東芝研究開発センター

• 太田 英男

  (株)東芝研究開発センター

• 三好 靖郎

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 濱田 吉隆

  信越化学(株)シリコーン電子材料技術研究所

• 鈴木 脩一

  株式会社東芝 小向工場 宇宙開発事業部

• 早瀬 修二

  株式会社東芝 研究開発センター 材料デバイス研究所

• 大西 廉伸

  株式会社東芝 総合研究所 化学材料研究所

• 真田 信一

  株式会社東芝 総合研究所 化学材料研究所

• 市之瀬 秀夫

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 三吉 靖郎

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 中野 義彦

  研究開発センター

• 太田 英男

  研究開発センター

• 早瀬 修二

  研究開発センター

• 濱田 吉隆

  信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所

• 大岩 徳久

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 伊藤 武男

  株式会社東芝 総合研究所 化学材料研究所

• 早瀬 修二

  (株)東芝研究開発センタ

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著作論文

• ポリシランを用いたLSI超微細加工用パターントランスファー膜特性と分子構造との相関 : 反射防止膜とパターントランスファー特性を兼ね備えたLSI微細加工用材料
• 活性なケイ素化合物とアルミニウム錯体からなるエポキシ樹脂硬化触媒と他の付加反応への応用
• 30a-YE-1 新反射防止膜の加工特性

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