佐藤 幹郎 | 東芝半導体技術部

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概要

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関連著者

• 佐藤 幹郎

  東芝半導体技術部

• 宮崎 綾夫

  東芝半導体技術部

• 宮崎 綾夫

  東芝 半導体技術部

• 阿部 敏雄

  東芝 半導体技術部

• 佐藤 幹郎

  東京芝浦電気k.k. 半導体技術部

• 大和田 敦之

  東芝半導体技

• 奥村 勝称

  東芝・材料技術部

• 松島 克雄

  東芝・材料技術部

• 佐藤 幹郎

  東芝・半導体技術部

• 坂本 敏朗

  東芝・半導体技術部

• 大和田 敦之

  東芝半導体技術部

• 大川 元一

  東芝中研

• 田中 喜好

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• 阿部 敏雄

  東京芝浦電気K.K. 半導体技術部

• 大井 昇

  東京芝浦電気K.K. 中央研究所

• 阿部 敏雄

  東芝半導体技術部

• 西 義雄

  東芝半導体技術部

• 西 義雄

  東京芝浦電機、半導体技術部

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著作論文

• ショットキーダイオードの点応力効果 : 半導体 (圧力効果, 電子顕微鏡による観察)
• Metal-Siの接触抵抗 (II) : 半導体 (表面)
• Metal-Siの接触抵抗 (I) : 半導体 (表面)
• 化学蒸着SiO_2-Si界面の研究 : 半導体 (表面)
• Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (II) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
• Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (I) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
• V-n-type-si Schottky Junction : 半導体(ダイオード)
• Impurty Distrubution in Si Epitaxial Film(I) : 半導体 : 気相成長
• GaAsの赤外吸収 : 応用半導体

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