宮崎 綾夫 | 東芝半導体技術部

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概要

• 同名の論文著者
• 東芝半導体技術部の論文著者

関連著者

• 佐藤 幹郎

  東芝半導体技術部

• 宮崎 綾夫

  東芝半導体技術部

• 宮崎 綾夫

  東芝 半導体技術部

• 大和田 敦之

  東芝半導体技

• 田中 喜好

  東芝半導体技術部

• 大和田 敦之

  東芝半導体技術部

著作論文

• 化学蒸着SiO_2-Si界面の研究 : 半導体 (表面)
• Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (II) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
• Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (I) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
• V-n-type-si Schottky Junction : 半導体(ダイオード)

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