宮崎 綾夫 | 東芝 半導体技術部
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概要
関連著者
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宮崎 綾夫
東芝 半導体技術部
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佐藤 幹郎
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大和田 敦之
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著作論文
- 化学蒸着SiO_2-Si界面の研究 : 半導体 (表面)
- Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (II) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
- Doped-oxideを用いたSiへの不純物拡散 (I) : 半導体 (拡散・インプランテーション)
- V-n-type-si Schottky Junction : 半導体(ダイオード)
- Si中不純物の拡散係数の濃度依存症について : 半導体 (拡散・インプランテーション)